光刻机和我们的生活相隔很远,但是却又处处都有它的身影。这是因为光刻机本身的作用。光刻机又名,掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻。通俗易懂的说,光刻机就是在制造芯片时不可或缺的工具,没有光刻机就没有芯片。那么问题来了,国产光刻机可以达到多少纳米?让我们赶紧一起来看看吧。感兴趣的朋友也可以借鉴参考一下
一般认为能做90-180nm的芯片,更高的应该是做不了。光刻机是制作芯片的关键设备,利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光,使光刻胶性质变化、达到图形刻印在硅片上形成电子线路图。我国目前还是采用什深紫外光的193nm制程工艺
名称 | 最新价 | 涨跌 |
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高线 | 3920 | - |
热轧平板 | 4620 | - |
低合金中板 | 4090 | - |
镀锌管 | 5390 | - |
槽钢 | 4080 | - |
热镀锌卷 | 5140 | - |
热轧卷板 | 11300 | - |
冷轧无取向硅钢 | 5000 | - |
圆钢 | 3840 | - |
硅铁 | 6600 | 100 |
低合金方坯 | 3580 | - |
铁精粉 | 890 | - |
二级焦 | 2360 | - |
铝锭 | 20550 | -60 |
中废 | 2085 | 0 |
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