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EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO 18 EVO

发布时间:2018-06-19 19:36 作者:互联网 来源:
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EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO 18 EVO基本信息 中文名称EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO 18 EVO成像方案导体 非导体 气体析出样品分辨率3.0 nm @ 30 kV (SE 与 W)加速电压0.2 - 30 kVEVO系列钨灯丝扫描电子显微

EVO系列灯丝扫描电子显微镜 EVO 18 EVO基本信息

中文名称 EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO 18 EVO 成像方案 导体 非导体 气体析出样品
分辨率  3.0 nm @ 30 kV (SE 与 W) 加速电压 0.2 - 30 kV

EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO 18 EVO技术参数

成像方案: 导体 非导体 气体析出样品

分辨率: 3.0 nm @ 30 kV (SE 与 W)

2.0 nm @ 30 kV (SE 带有 )

4.5 nm @ 30 kV (VP 模式 - BSD 或 SE)

加速电压:0.2 - 30 kV

放大倍数: 5 - 1,000,000 x

视野: 6 mm 在分析工作距离(AWD)

X 射线分析: 8.5 mm AWD,35°出射角

OPTiBeam®*模式: 分辨率、景深、分析、大视野

压力围: 10 - 400 Pa 用空气或可选的水蒸汽

可选探测器: ZEISS BSD 用于所有模式- 四象限半导体二极管探测器

VPSE - 可变压力二次电子探测器

SCD - 样品电流探测器

样品室尺寸: 365 mm (Φ) x 255 mm (h)

5 轴电动计算机对中样品台: X = 125 mm

Y = 125 mm

Z = 50 mm (35 mm 电动)

最大样品高度 120 mm

T = 0 - 90°

R = 360°(连续)

样品台由鼠标、操纵杆和控制板控制

未来保证升级途径: 电子束衬管

扩展压力

水蒸汽 VP 气体

图像处理: 分辨率可达 3072 x 2304 像素 用叠加和平均方式进行信号采集

图像显示: 高对比度彩色平板 TFT 显示器用于以 1024 x 768 像素显示 SEM 图像

系统控制: 用鼠标和键盘操作的 SmartSEM™** GUI多语言简明的 GUI Windows® XP 操作系统

实用要求: 100 – 230 V, 50 或 60Hz 单相 不需要水冷

OptiBeam®* - 以主动式镜筒控制实现最高分辨率、最大视野或者最佳景深

SmartSEM™** - 第五代扫描电镜控制图用户界面

EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO 18 EVO造价信息

市场价 信息价 询价

EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO 18 EVO简介

标配能谱仪(EDS)和波谱仪(WDS)接口,领先的 X 射线几何条件对所 有样品提供了最精确的分析。对于非导体采用电子束衬管技术也提高了图像质量和分析精度。可选择 LaB6 高亮度光源,在与 X 射线分析相适应的探针 电流的性能上提高到一个新 的水平。在 8.5 mm 的分析工作距离,EVO® 18 能够处理的 样品可达 250 mm 直径和 145mm 高。此外,共面的设计为 EBSD 与 EDS 的联合使用提 供了理想的几何条件。无论何时对于你的材料分析的挑战,EVO® 18 都能使你的 样品清晰可见。

● 配备 X 射线能谱仪并具有领先的 X 射线分析几何条件

● 使用可变压力工作模式进行 样品的电荷中和

● 大的样品台移动范围

● 电子束衬管用于增强成像与 分析

● 用可选的 LaB6 电子源进行高性能成像

EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO 18 EVO常见问题

电子显微镜除了包括亚显微镜还包括什么?

电子显微镜的分类 1、透射电镜 (TEM) 样品必须制成电子能穿透的,厚度为100~2000 Å的薄膜。成像方式与光学生物显微镜相似,只是以电子透镜代替玻璃透镜。放大后的电子像在荧光屏上显示出来,TE...

电子显微镜成像原理

电子显微镜是根据电子光学原理,用电子束和电子透镜代替光束和光学透镜,使物质的细微结构在非常高的放大倍数下成像的仪器。 电子显微镜的分辨能力以它所能分辨的相邻两点的最小间距来表示。20世纪70年代,透射...

电子显微镜的工作原理是什么?

顾名思义,所谓电子显微镜是以电子束为照明光源的显微镜。由于电子束在外部磁场或电场的作用下可以发生弯曲,形成类似于可见光通过玻璃时的折射现象,所以我们就可以利用这一物理效应制造出电子束的“透镜”,从而开...

EVOH是什么?

EVOH(乙烯/乙烯醇共聚物) EVOH一直是应用最多的高阻隔性材料。这种材料的薄膜类型除了非拉伸型外,还有双向拉伸型、蒸镀型、黏合剂涂覆型等,双向拉伸型中还有耐型的用于无菌包装制品。...

irevo电子锁价格怎么样

IREVO韩国电子锁价格:3180元 IREVO韩国电子锁简介:   TOUCHGATE   21大幅强化产品性能的电子数码门锁,是符合自动化、数码化趋势的智...

透射-扫描电子显微镜概述

透射·扫描电子显微镜、ransmissian-acanaing e:ectr}n ms-。r}ascc3pe; }1'SEM电子显微镜的种。由电子枪产生的高速电子束,投射到待测试样_巨,然后逐点扫描,收集电子束与试样表面相互作用产生的电子信息,经放人成像的一种显微镜。T}r:M较一般透射电户显微镜简单,可避免物链的色差问题,适用于原试样的观察。

扫描电子显微镜相关应用

扫描电子显微镜 在新型陶瓷材料显微分析中的应用 

显微结构的分析

在陶瓷的制备过程中,原始材料及其制品的显微形貌、孔隙大小、晶界团聚程度等将决定其最后的性能。扫描电子显微镜可以清楚地反映和记录这些微观特征,是观察分析样品微观结构方便、易行的有效方法,样品无需制备,只需直接放入样品室内即可放大观察;同时扫描电子显微镜可以实现试样从低倍到高倍

定位分析,在样品室中的试样不仅可以沿三维空间移动,还能够根据观察需要进行空间转动,以利于使用者对感兴趣的部位进行连续、系统的观察分析。扫描电子显微镜拍出的图像真实、清晰,并富有立体感,在新型陶瓷材料的三维显微组织形态的观察研究方面获得了广泛地应用。

由于扫描电子显微镜可用多种物理信号对样品进行综合分析,并具有可以直接观察较大试样、放大倍数范围宽和景深大等特点,当陶瓷材料处于不同的外部条件和化学环境时,扫描电子显微镜在其微观结构分析研究方面同样显示出极大的优势。主要表现为: ⑴力学加载下的微观动态 (裂纹扩展)研究 ; ⑵加热

条件下的晶体合成、气化、聚合反应等研究 ; ⑶晶体生长机理、生长台阶、缺陷位错的研究; ⑷成分的非均匀性、壳芯结构、包裹结构的研究; ⑸晶粒相成分在化学环境下差异性的研究等。

纳米尺寸的研究

纳米材料是纳米科学技术最基本的组成部分,现在可以用物理、化学及生物学的方法制备出只有几个纳米的“颗粒 ”。纳米材料的应用非常广泛,比如通常陶瓷材料具有高硬度、耐磨、抗腐蚀等优点,纳米陶瓷在一定的程度上也可增加韧性改善脆性等,新型陶瓷纳米材料如纳米称、纳米天平等亦是重要的应用领域。纳米材料的一切独特性主要源于它的纳米尺寸,因此必须首先确切地知道其尺寸,否则对纳米材料的

研究及应用便失去了基础。纵观当今国内外的研究状况和最新成果,目前该领域的检测手段和表征方法可以使用透射电子显微镜、扫描隧道显微镜、原子力显微镜等技术,但高分辨率的扫描电子显微镜在纳米级别材料的形貌观察和尺寸检测方面因具有简便、可操作性强的优势被大量采用。另外如果将扫描电子显微

镜与扫描隧道显微镜结合起来,还可使普通的扫描电子显微镜升级改造为超高分辨率的扫描电子显微镜。图 2所示是纳米陶瓷的扫描电镜照片,晶粒尺寸平均为 20nm。

电畴的观测

压电陶瓷由于具有较大的力电功能转换率及良好的性能可调控性等特点在多层陶瓷驱动器、微位移器、换能器以及机敏材料与器件等领域获得了广泛的应用。随着现代技术的发展,铁电和压电陶瓷材料与器件正向小型化、集成化、多功能化、智能化、高性能和复合结构发展,并在新型陶瓷材料的开发和研究中发挥重要作用。铁电畴 (简称电畴)是其物理基础,电畴的结构及畴变规律直接决定了铁电体物理性质和应用方向。电子显微术是目前观测电畴的主要方法,其优点在于分辨率高,可直接观察电畴和畴壁的显微结构及相变的动态原位观察 (电畴壁的迁移)。

扫描电子显微镜观测电畴是通过对样品表面预先进行化学腐蚀来实现的,由于不同极性的畴被腐蚀的程度不一样,利用腐蚀剂可在铁电体表面形成凹凸不平的区域从而可在显微镜中进行观察。因此,可以将样品表面预先进行化学腐蚀后,利用扫描电子显微镜图像中的黑白衬度来判断不同取向的电畴结构。对不同的铁电晶体选择合适的腐蚀剂种类、浓度、腐蚀时间和温度都能显示良好的畴图样。图 3是扫描电子显微镜观察到的 PLZT材料的 90°电畴。扫描电子显微镜 与其他设备的组合以实现多种分析功能 

在实际分析工作中,往往在获得形貌放大像后,希望能在同一台仪器上进行原位化学成分或晶体结构分析,提供包括形貌、成分、晶体结构或位向在内的丰富资料,以便能够更全面、客观地进行判断分析。为了适应不同分析目的的要求,在扫描电子显微镜上相继安装了许多附件,实现了一机多用,成为一种快速、直观、综合性分析仪器。把扫描电子显微镜应用范围扩大到各种显微或微区分析方面,充分显示了扫描电镜的多种性能及广泛的应用前景。

目前扫描电子显微镜的最主要组合分析功能有:X射线显微分析系统(即能谱仪,EDS),主要用于元素的定性和定量分析,并可分析样品微区的化学成分等信息;电子背散射系统 (即结晶学分析系统),主要用于晶体和矿物的研究。随着现代技术的发展,其他一些扫描电子显微镜组合分析功能也相继出现,例如显微热台和冷台系统,主要用于观察和分析材料在加热和冷冻过程中微观结构上的变化;拉伸台系统,主要用于观察和分析材料在受力过程中所发生的微观结构变化。扫描电子显微镜与其他设备组合而具有的新型分析功能为新材料、新工艺的探索和研究起到重要作用。

成像

次级电子和背散射电子可以用于成像,但后者不如前者,所以通常使用次级电子。

表面分析

欧革电子、特征X射线、背散射电子的产生过程均与样品原子性质有关,所以可以用于成分分析。但由于电子束只能穿透样品表面很浅的一层(参见作用体积),所以只能用于表面分析。

表面分析以特征X射线分析最常用,所用到的探测器有两种:能谱分析仪与波谱分析仪。前者速度快但精度不高,后者非常精确,可以检测到“痕迹元素”的存在但耗时太长。

台式扫描电子显微镜简介

台式扫描电子显微镜(Desktop Scanning Electron Microscope, Desktop SEM)的概念是由美国FEI公司(1997年原FEI和飞利浦电子光学合并而成)提出的,并于2006年正式发布了旗下的PheNOM飞纳台式扫描电镜,而后于2009年成立Phenom-World(飞纳世界)公司,专业研发并生产台式扫描电镜。相较于传统大型SEM,台式扫描电镜具有体积小巧、操作简便、价格便宜、快速抽真空、不用喷测量不导电样品等优势,而且它的放大倍数可高达130,000倍。此类新型仪器的出现填补了光学显微镜与传统大型扫描电子显微镜之间的空白区域,可广泛应用于材料科学、纳米颗粒、生物医学、食品药品、纺织纤维、地质科学等诸多领域。


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